纯水设备‍要针对哪些物质进行清除

自来水中含有溶解性固体、溶解性气体、溶解性有机物、颗粒物和微生物等污染物质。纯水系统变得越来越复杂和庞大,系统需要检测执行的信号繁多,对纯水自动化系统的数据处理能力、安全性,可靠性的要求的提出了更高的要求,且需要及时地对系统的故障进行有效的预测、检测、分离和修复。采用现代化的高可靠性的PLC冗余技术的控制系统能够解决这一需求。纯水设备‍要针对哪些物质进行清除?

1、微粒和溶解氧

液晶面板生产中,水粒子具有很大的危害,一旦接触,由于分子间的相互作用,在硅晶片表面的粘附,并很难清除。当水蒸发时,在硅晶片上更难清除颗粒表面的残留,从而破坏电路。粒径微粒越大,电路缺陷就大,微粒越多,液晶面板的缺陷密度越高。面板在清洗过程中,若水中存在溶解氧,容易在硅片表面形成自然氧化膜,从而影响电路的性能及成品率。

2、有机物和硅

有机污染可增加硅片的局部氧化速度,生成氧化硅,使氧化层变得不均匀。水中的硅(SiO2)包括非可溶性硅和可溶性硅。纯水中硅会造成磷硅雾,等离子刻蚀,形成颗粒污染而影响图形缺陷,降低电子管及固体电路的质量,甚至造成废品。

3、硼

纯水的温度影响行聚焦的深度及清晰度,需要控制在规定摄氏度。在半导体生产中,硼过量会影响电子、空穴浓度。因此需充分考虑硼的脱除和所用树脂中硼的析出。纯水的水质严重影响TFT-LCD面板的生产。为了满足液晶面板的轻,薄,短,小,高密度发展,纯水的质量要求将更为严格。

自来水中的杂质需要通过相应的纯水设备‍去除,生成符合要求的纯水,故从自来水到纯水制备的生产系统称之为整个纯水制备系统。该系统采用现在前卫的RO混床工艺,其工艺流程分预处理系统、RO系统、制成系统、抛光系统多个子系统。